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GE打破常“硅”精湛登场21届多国仪器仪表展

作者:刘雪云来源:网纵会展网 发表时间:2012-09-30关注 次 | 查看所有评论

内容摘要: 关键词:仪器仪表展学术会议GE电气 2010年9月6日—9日,作为设计和制造先进传感器与测量业务的行业领导者,GE电气传感检测科技(上海)有限公司携流量计、分析仪、温度仪、便携式校……

关键词:仪器仪表展学术会议GE电气

  2010年9月6日—9日,作为设计和制造先进传感器与测量业务的行业领导者,GE电气传感检测科技(上海)有限公司携流量计、分析仪、温度仪、便携式校验仪、传感器等系列产品亮相第二十一届多国仪器仪表学术会议暨展览会。    在本届多国仪器仪表展期间,GE电气传感检测科技有限公司打破常“硅”携其最新发布产品——TERPS沟槽刻蚀谐振式压力传感器“精”湛登场。TERPS沟槽刻蚀谐振式压力传感器10倍于现有硅压阻传感器,具有高精度、高稳定性、高量程技术特性,堪称TERPS技术性革命的转折点。TERPS沟槽刻蚀谐振式压力传感器强大的技术优势确保产品在航空航天、海洋工程、工业仪器设备、过程行业、测试设备等领域均具有广泛应用。    TERPS沟槽刻蚀谐振式压力传感器,较传统硅压阻测量范围大大提高,最高压力量程可达70MPa;具有10倍于现有硅压阻传感器精度及稳定性;采用介质隔离的方式使其在恶劣环境也使用;灵活的压力、电信号接口选择使用更加方便快捷,这些方面的优异特性共同造就了TERPS技术压力传感器革命性的优势。  

来源:中华工控网

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